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Moisture Mask Reinigungsmasken Spurenelementen

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Description

Spurenelementen

Stärkt die Hautabwehr

verfeinert die Poren und hinterlässt ein glattes Hautbild

Fördert die Kollagen- und Elastinsynthese

Hände und Körper und ist besonders für feuchtigkeitsarme sowie ölige und sonnenstrapazierte Hauttypen vorteilhaft

Moisture Mask Reinigungsmasken SpurenelementenIntensive Feuchtigkeitspflege fr jede Haut Die Gesichtsmaske Moisture Mask aus der Basic Line von Chris Farrell wurde speziell entwickelt, um die Haut effektiv mit Feuchtigkeit zu versorgen und sie nach Stress oder einer langen Sonnenexposition zu beruhigen. Die cremige Textur der Maske eignet sich fr Gesicht, Hnde und Krper und ist besonders fr feuchtigkeitsarme sowie lige und sonnenstrapazierte Hauttypen vorteilhaft. Verwenden Sie die Maske

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